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Entwicklung und Optimierung einer Technologie zur Herstellung ultradünner Chips mit Hilfe von Siliziumwafern mit vergrabenen Kavitäten

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Entwicklung und Optimierung einer Technologie zur Herstellung ultradünner Chips mit Hilfe von Siliziumwafern mit vergrabenen Kavitäten, Martin Zimmermann

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2010
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(In brossura)
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